第64章 星曉[11] ASML EUV發布！（第3/4頁）

盛明安：“用矽和鉬反復鍍膜，直到光線利用率達到國際標準。”

當下有人反駁：“都是納米級鍍膜，反復鍍膜也會影響精度，工藝太難了！”

難度多大？

最淺顯易懂的比喻便是將一面直徑不超過四十厘米的反射鏡放大至覆蓋地面，其平面起伏不能超過一根頭發的直徑。

而光刻機所需的反射鏡多達四五十層，平面精度一層比一層要求更平整。

全球只有德國蔡司這家傳承三代以上的企業才造得出這種反射鏡。

當然，反射鏡不對華出口。

盛明安：“不用擔憂反射鏡能不能被打磨出來，你們只需要盡己所能考慮反射鏡在光的收集和轉化率這一單元裏，能夠被如何利用到極致。”

“數據、模型，不管失敗成功，統統記錄下來。”

盛明安語速打機關槍似的，斬釘截鐵、不容置喙，仿佛難度高到爆表的光源系統在他眼裏層次分明、井然有序，所有的技術難點都可以被輕松解決。

他胸有成竹，心有溝壑。

他不必開口安慰，只要用平淡輕松的口氣下達每一道指令就能安定實驗室每個人退怯、不自信的心。

“杜頌，打開你的modelica先進行初步的超精密激光器建模仿真。”

modelica是一款可實現復雜的物理系統仿真建模的計算機語言軟件，可用於光刻機某些超精密部件的仿真建模。

杜頌：“已在創建。”

他領著自己小組成員低頭忙碌。

“雷客，你調整一下光路結構。”

“好。”雷客示意助手打開opc（光學鄰近矯正）軟件，通過模型動態仿真結果計算查找表修正光與圖案。

盛明安匍匐在桌案，設計市場需求的激光光源，就目前的技術發展而言，光刻機激光光源仍以激光等離子體為主。

驅動光源產生的碎屑數量，光譜純度，每提高一個技術節點消耗的功率和產能……其實日前最先進的euv，其功率消耗大、產能低，再過五六年也未能完美解決這兩個問題。

可盛明安不清楚。

他雖不願用前世記憶盜竊他人成果提前制造出國產光刻機，可前世是他完美解決euv產能低的問題，因此習慣性順手將這難題歸入待解決列表之一。

以至於後來一舉攻破該技術節點實現反超asml目標，實屬意料之外。

***

15年5月份左右，國際半導體發生了一件大事。

asml官網對外發布突破光刻機量產瓶頸，正式對外售出可量產14nm極紫外光刻機！

此舉瞬間激起千層浪，全球各界媒體報道不休，半導體發燒友熱鬧得跟過年一樣紛紛發表討論。國內貼吧、技術論壇和逼乎新帖不斷，基本都是討論asml這一舉措將帶來怎麽的影響。

【光刻巨人：asml真正的崛起！】

國內科技網對asml的新聞標題被搬到國內電子發燒友論壇，論壇主搬來這標題就已經表明了他對未來全球半導體地位的劃分認可。

【如標題所說，從今以後，asml是唯一的光刻巨人！】

【佳能、尼康的時代消失了，光刻機百花齊放共競爭的時代一去不復返，將來只有asml一騎絕塵的身影！】

【雖然不想承認，但歐美又在一個重要的領域裏實現了科技霸權！】

【諸位，配合英特爾、高通今年年初發布的將於15年實現14nm核心處理器、年末實現10nm核心處理器的新聞發布會食用，而國產光刻機還停留在365nm光波長的第三代光刻機技術節點！】

【拉開了兩代，落後二十年。】

【華國被死死扼住半導體產業的喉嚨……】

【感到窒息。】

另一個貼沒有這麽喪氣，但基本是在吹asml，回顧asml的歷程，曾經也不過是個半生不死的小公司……

【誰還能記得曾經的asml瀕臨倒閉？】

【那時候的尼康和佳能才是霸權半導體領域的大佬，可惜封殺了台積電林大佬的浸潤技術emmmm結果最後被asml撿漏。】

【asml的崛起之路從這一步開始[滑稽]。】

【命運真是奇妙，誰能料到最後會是名不見經傳的阿斯麥爾搶先一步研發出第五代光刻機？】

【小聲插一句，我國有機會研發14nm光刻機嗎？】

【？？asml肯賣給我們一台euv就偷笑了，還自主研發？做夢呢！】

【肯定告訴你：有！二十年後！】

【不過那個時候的半導體可能已經發生翻天覆地的變化，摩爾定律失效，現有的光刻機技術臻至極限不再寸進，或許出現了新的機器替代光刻機，量子定律取代摩爾定律……我們再次被甩開二十年。】

【也不必這麽悲觀，或許二十年後，華國光刻機技術實現超英趕美。】

【摩爾定律沒那麽輕易被取代，你以為重新誕生一個定律很容易？】

【盛神不是解決了量子糾錯的難題嗎？很多人深受鼓舞，投入量子課題研究。只要某個領域天才成群結隊而來，天大的難題被解決也只是時間的問題。】