第64章 星曉[11] ASML EUV發布！（第2/4頁）

杜頌想起陳驚璆的叮囑，如果計海問話就透露點消息，讓他帶給鄭河。

“研發部在盛神帶領下準備攻破光源系統的核心技術問題，項目已經開啟了。”杜頌如實說：“林工忙著帶領團隊設計芯片，至於陳總，好像在洽談合作、投資之類的。”

計海有點懵，這說了跟沒說有區別？

“進度呢？”

“什麽進度？”

“核心技術？合作投資的項目？！”

“那我哪知道！”

“你——！”

計海覺得自己不該找杜頌這個蠢貨，他忍下怒氣小聲勸說：“我跟鴻芯那邊說了，人家表示很歡迎技術人才。你要是想通了，帶點研發部那邊的資料去見鄭總。”

杜頌含糊：“我再想想。”

計海心裏想別的，沒多勸，擺手讓他出去，回頭翹班去找鄭河將杜頌提供的情報交過去，換來鄭河的冷笑。

“藍河科技一直雙擔ic設計和光刻機的光源系統制造，業界內都知道的消息！林成建的身份，我早查清了！陳驚璆四處拉投資、找合作，到處碰壁，你以為我不知道？！”鄭河有些憤怒：“你耍我？！”

計海擦著額頭冒出的冷汗，慌亂否認：“不不不是……”

鄭河重重冷哼，審度計海的目光如刀片般，似乎對計海的才能產生了懷疑：“那些科研成果真是你的？”

計海連連點頭：“當然都是我的！鄭總，您說我一個搞科研的，怎麽做得來內應這種事？”

如果不是科研人員大多非長袖善舞，鄭河早踹開計海了。

“雖然你搜來的消息都沒用，不過這也說明藍河科技最近確實處境艱難。”鄭河臉色緩和了些，冷笑著說：“藍河科技拉不到投資，革芯項目沒人看好，陳驚璆居然不想辦法解決迫在眉睫的資金問題，而是跑去各個研究團隊找他們合作攻破光刻機技術！”

“哈哈哈哈……”鄭河搖頭，上下搖晃著食指嘲諷：“蠢！天真！果然還是太年輕！技術是核心沒錯，但這麽做就是緣木求魚！”

攻破核心技術哪有那麽容易？

那些科研團隊從立項到拿到資金再到解決關鍵技術問題並實現產業化，可都不是一朝一夕的事！

陳驚璆以為就他聰明、就他們想到這個聯合技術鏈的辦法？

單說那個光刻機雙工作台的核心技術，11年獲得國家02專項立項至今，思念過去了還沒出結果。

技術攻破首要是資金，沒有資金學人開什麽公司？做什麽技術開發？

憑那麽點天真熱血的沖動想法而忽略了腳下不牢靠的基石，太蠢了。

鄭河如是冷漠傲慢的想著，打發走計海，將消息簡單匯報給陳天鶴。

陳天鶴正從私人專機上下來，落到美國的土地上。

“陳驚璆的事以後不用跟我說。”陳天鶴冷漠的說。

他擡頭觀看這座燈火通明的城市——

加利福尼亞州聖叠戈市，高通總部。

陳天鶴此行的目的。

***

光源系統是光刻機制造的核心，是晶圓光刻工程的起始步，與光刻工程後續每一步息息相關。

光源系統主要三大單元是光的產生、收集和均一化，初代光刻機的光源系統還包括光的純化，但第四代、第五代的激光器產生的光源已經達到要求，只需要讓光均勻化就行。

光是雕刻的工具，由激光器產生，涉及三項技術指標即光刻分辨率、套刻精度和產能。

光刻分辨率有一道計算公式，照公式調整影響因數從而提高光刻分辨率，這方面難度不大，但是受掩膜設計、抗蝕劑工藝等牽制，必須同時達到最佳化才能實現理想的光刻分辨率。

套刻精度與光刻分辨率相關，直接受其影響。

至於產能，則與光源系統的穩定相關。

以上是對激光器的要求，相對整個光源系統的技術要求不算高，系統工程程序中最難的步驟是光的收集。

收集難度大，轉化效率也低。

雷客坐在電腦前，操縱鼠標在軟件裏做精密的計算：“所需的極紫外光必須在真空下進行反射，不能被折射，因為它非常容易被吸收。真空腔內的反射鏡需要特殊鍍膜，把這束光，從光源一路引導到晶圓……經過十幾次反射，最終剩下的光線不到2%！”

圍觀過來的研發部成員倒吸一口涼氣，雖早知光源轉化率低，但聽到這數字還是低得讓他們心疼。

光源轉化率低就意味著能量的巨大消耗，最直觀的例子，一台euv機器輸出功率兩百瓦左右，工作一天，耗電三萬度。

光線利用率不到2%已經是優化其他性能所能夠得到的最佳數據，決定該性能優化的決定性關鍵就是反射鏡的精度。

“精度必須以皮秒來計算。”

換句話說，光刻機所需的反射鏡精度必須打磨到萬億分之一米。