第436章 3D三柵極晶體管（第2/2頁）

顧松再次露出一個燦爛的笑容：“讓大家久等了，這就開始。讓我們先從很多人最關注的地方開始吧。22納米制程工藝，以及EUV光刻機。”

英特爾的高管猛的心神巨震。

EUV光刻機？

其他懂這個的，立刻張大了嘴巴。還真有未公布的新成果？

什麽情況？浸潤式光刻機不是剛做出來不久嗎？怎麽就有極紫外光刻機了？

ASML倒是一直在做，原來說04年推出的，現在肯定是集中精力改進浸潤式光刻機去了，EUV光刻機沒有新消息。

顧松不等眾人疑惑不解，就說道：“浸潤式光刻，經過我們的一段實驗和論證，它的有效極限，應該就是22納米。所以，極紫外光刻的研發已經提上了日程，我們只取得了很小的進展。之所以在這裏提出來，也是向各位有需要的夥伴發出邀請，一起攻克這個難題。”

聽到這話，凱文·卡爾心頭一動，這是一個很好的信號。

唯一只需要考慮的，就是老家夥們，願不願意與華國展開合作。

英特爾的高管也長舒一口氣。

如果說燧石科技又拿出來22納米制程工藝，又完成了可以突破到10納米甚至7納米制程的極紫外光刻機，那將極大地影響英特爾接下來至少10年到20年的戰略走向。

台上，顧松通過幻燈片呈現出了他最期待想看到的一個東西。

“諸位，這就是22納米制程工藝下的3D三柵極晶體管示意圖。”