第809章 吃幹抹凈方小年（第2/3頁）

更沒有進軍存儲的計劃，頂多是畢方有這個想法，那也跟前沿無關！

至於為什麽還要二次適配，原因也很簡單，目前服務器行業大多數也是X86指令架構。

而大CPU用的是CB12指令架構。

此外，苗為也聽得出來方年表達的另一層意思。

廬州前沿是有足夠能力設計出優秀的CPU，但行業支不支持，很不好說。

苗為甚至知道，這可以理解為方年在將他的軍。

說起來慢，其實這些彎彎繞苗為一瞬就明白了過來，斟酌片刻，才開口：“我會親自協調。”

“至於英特爾……”

聞言，方年連道：“市場競爭是必然會存在的。”

“……”

這麽一說，苗為就全然明白了，方年要的是個確切答案，是比之前國產操作系統應用生態小組更有保障的承諾。

雖說現在廬州前沿研發大CPU花的是財政撥款，但這點錢肯定不夠看。

苗為也不是那種兩耳不聞窗外事的人，他想了解一個事情，開句口自然有人總結匯報。

參照國外同等級別處理器研發投入，25億人民幣頂多是個起步資金。

廬州前沿會不會半途而廢，取決於部裏的協配工作是否到位。

迎著方年坦然平和毫無壓力的目光，苗為抿著嘴說了句：“相關工作啟動後，我會親自督導。”

“謝謝苗部。”方年認真道。

“……”

然後方年毫不猶豫的轉移了話題：“光刻機項目進展還算順利，廬州前沿匯報，不日將試產65納米工藝的芯片。”

“預計今年內可試產28納米工藝芯片，比預期進展要快得多，但在28納米往下會陷入較大瓶頸；

如果各大單位給力，材料上有所突破，能在一兩年內繼續突破。

在前沿的規劃中，再往後可以用EUV光刻來突破，一直到物理極限的1納米。”

說到最後，方年臉色很不好看的補充了句：“不過……EUV的實際進展有點辣眼睛。”

“畢竟是比歐美晚了十幾年才開始研究，心急吃不了熱豆腐。”苗為安慰了一句。

“……”

其實許多人，包括苗為不明白方年為什麽會如此極力堅持EUV。

畢竟理論上DUV可以支持到7納米光刻。

現在全世界最先進制程的是英特爾，才搞定22納米。

距離7納米看起來是很遙遠的。

而且到這一步，為了防止原子漏跑等，簡稱漏電，現在國際先進制程已經在考慮FinFET工藝。

這就開始出現方年所說的技術瓶頸。

按照國際半導體技術藍圖定義技術節點是最小金屬間距（MMP）的一半來算，MMP減少開始變緩；

偏偏3D化後，晶體管數量依舊激增，這樣就顯示不出工藝進步了。

於是……

下一代工藝命名就按照了早期二維晶體管形式的長寬各縮短0.7，則面積縮小一半（0.7×0.7＝0.5）這樣的一個形式來簡化計算。

什麽叫簡化計算……

即，20×0.7＝14。

再然後是14→10→7→5→3。

那麽實際上MMP減少了多少呢？

以台積電為例，從10納米到7納米，MMP從44納米降到了40納米。

只有堅守摩爾定律的英特爾死活在14nm+、++、+++上停滯不前。

英特爾甚至想說一句：不標準的命名規則都特麽是耍流氓。

這也是從終端用戶角度上，更先進制程的突破，體驗感並未成倍數突破的原因。

甚至可以說，英特爾的14nm+++≈廣泛意義上的7nm。

因為兩者每平方毫米晶體管數量基本相等。

綜上……

方年之所以毫不猶豫all in EUV。

是因為這特麽眨巴眼的功夫，就必須要用到EUV了。

在方年重生之前，別說瓦森納、禁運這些，就唯一可以生產EUV的ASML手頭上握著起碼能排到五年後的訂單。

原因十分簡單：產不出來。

方年既然有理想有抱負，怎麽可能在這裏不來一手準備？

現在開始all in EUV，起碼五年十年後，梼杌是能搞出來點東西的。

EUV（極紫外）的光源波長直接就從193納米跳到了10~14納米之間的，目前研究資料表明，13.5nm波長是可用性最高的。

這樣一來，在尖端光刻領域，就有了話語權。

稍頓，苗為沉吟著道：“DUV光刻的進展這麽順利，前沿有無量產計劃？”

“暫時沒有，到28納米再說。”方年平靜道，“我想應該有人會主動給我們送這中間的成套設備。”

苗為一下就懂了，忍不住伸手虛點了方年兩下：“你小子，難怪馬珀利跟雷軍都公開吹捧說你是最成功的商人，沒有之一雲雲，你簡直就是個商業奇才！”

接著又含蓄的提了句：“大基金的事情快提上議程了。”