第0710章 中國光刻機的希望（第2/2頁）

“什麽是濕式？”

“他說的這個濕式名字叫做浸潤式，與濕式差不多。但用的介質卻不一樣，我們一般現在用的是空氣，而林本艱提成了用水作為浸潤式的介質。”

“水？”

聽到水這個詞，陳宇有些激動。

記得前世，其實在開始之初，荷蘭aslm與德國，與日本幾大光刻機公司實力都差不多。

為什麽後來aslm卻是一統天下，完全與這一些光刻機公司選擇的路線有關。

當時日本，德國，包括美國這一些光刻機公司路線選擇出錯。

而aslm卻是花重金開辟了另一條光刻機生產工藝。

這個工藝，就涉及到水，也就是林本艱現在提到的浸潤式。

“您覺得他的這個工藝有沒有前途？”

陳宇不是很懂技術，但卻知道，這是決定未來光刻機命運的時刻。

在前世2008年之後，全球90%以上生產出來的芯片，用的都是林本艱所提出來的濕式光刻工藝。並且，也正因為林本艱提出了這個濕式工藝，這才將芯片從190納米，一路做到了130納米，90納米，65納米，40納米，28納米，20納米，16納米，10納米，7納米，和5納米。甚至，連最為尖端的3納米，采用的都是林本艱的濕式光刻技術。

“這個，說不準，理論上有可能，但裏面還存在著一系列要解決的問題。比如，水會不會產生汽泡，水會不會汙染設備，要怎麽做防水，水遇熱會膨脹，折射率會改變，這又怎麽解決……”

張如京向陳宇述說著這一個濕式光刻工藝所面對的問題。

只是，這個時候，陳宇的眼睛已經盯緊了林本艱。

他知道。

未來若幹年之後，這一切的問題都不會成為問題。

如果抓住這個林本艱，那麽，中國光刻機就有希望了。